特許
J-GLOBAL ID:200903012470560006

ピント調整方法、ピント調整装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小橋 信淳 ,  小橋 立昌
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-087580
公開番号(公開出願番号):特開2005-274925
出願日: 2004年03月24日
公開日(公表日): 2005年10月06日
要約:
【課題】 MTFによるピント調整と同等の精度及び撮像面の全体に対するピント調整評価が可能で、ピント調整のための装置を小型化できる。【解決手段】 ピント調整装置は、レーザビーム照射部11,ビームスポット面積計測部12,レンズユニット調整部13を備える。レーザビーム照射部11は、1本の平行光レーザビームLB1をレンズユニット2の中央部分に照射して撮像面1Aの中央付近に集光させると共に、複数本の平行光レーザビームLB2〜LB5をレンズユニット2の中央部分に斜めに照射して撮像面1Aの周辺付近に集光させる。ビームスポット面積計測部12は、平行光レーザビームLB1〜LB5の集光によって撮像面1A上に形成された複数のビームスポットs1〜s5の面積を撮像素子1の出力を画像処理することによって計測する。レンズユニット調整部13は、レンズユニット2の撮像面1Aに対する距離と姿勢の一方又は両方が調整できる機構を備えている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
撮像素子の撮像面に対してレンズユニットのピント位置を調整するピント調整方法において、 1本の平行光レーザビームを前記レンズユニットの中央部分に照射して前記撮像面の中央付近に集光させると共に、複数本の平行光レーザビームを前記レンズユニットの中央部分に斜めに照射して前記撮像面の周辺付近に集光させる手順と、 前記平行光レーザビームの集光によって前記撮像面上に形成された複数のビームスポットの面積を計測する手順と、 前記複数のビームスポットの面積に基づいて、前記レンズユニットの前記撮像面に対する距離と姿勢の一方又は両方を調整する手順と、を有することを特徴とするピント調整方法。
IPC (1件):
G02B7/28
FI (1件):
G02B7/11 Z
Fターム (3件):
2H051AA15 ,  2H051CC03 ,  2H051CC09
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
  • レンズ鏡筒加工装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-308888   出願人:オリンパス光学工業株式会社
  • 特開昭63-060089
  • 画像入力装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-283599   出願人:オリンパス光学工業株式会社
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