特許

J-GLOBAL ID：200903012505341833

投影露光方法及び装置

発明者： 鈴木 広介
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-283898
公開番号（公開出願番号）：特開平11-195602
出願日： 1998年10月06日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】 露光光吸収によるレチクルの熱変形、又は投影光学系の光学部材の熱変形による結像特性の変化を高精度に補正する。【解決手段】 走査露光方式でレチクル14のパターン像を投影光学系16を介してウエハ20上の各ショット領域に転写する。レチクル14のパターン存在率、及び熱吸収量より熱変形量の分布を求め、この分布より結像特性の各成分の変化量を求めると共に、投影光学系16を通過する露光光の光量を測定することで、露光光吸収による投影光学系16の結像特性の変化量を求める。走査露光前、又は走査露光中に、投影光学系16内の結像特性補正部18の所定のレンズ群の光軸方向の位置及び傾斜角、又はレチクル14とウエハ20との相対走査速度等を制御することで、結像特性の各成分の変化量を相殺するように結像特性を補正する。

請求項（抜粋）：

マスクと基板とを同期して移動することにより、前記マスクのパターンの像を投影光学系を介して前記基板上に転写する投影露光方法において、走査露光前、又は走査露光中に、前記投影光学系の少なくとも1つの光学素子の光軸方向の位置、前記少なくとも1つの光学素子の光軸方向の傾斜角、前記マスクと前記基板との相対走査速度、及び前記マスクと前記基板との走査方向の平行度の内の少なくとも1つを調整して結像特性を補正することを特徴とする投影露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A