特許
J-GLOBAL ID：200903012508981205
パターンマッチングによる検査方法および検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木村 高久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-245172
公開番号（公開出願番号）：特開平10-091785
出願日： 1996年09月17日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：
【要約】【課題】位置、大きさがランダムに変化する光沢部周辺部分をマスクする際に、そのマスク部分を正確かつ容易に判断することができるようにするとともに、パターンマッチングの際のスコアが低下することにより誤サーチが招来することを防止し、パターンマッチングの際の位置決め検出精度を高める。【解決手段】複数の検査物体がそれぞれ撮像される。ついで、撮像された複数の検査物体のうちの一の検査物体が基準パターンとして設定される。ついで、この基準パターンの撮像画像と他の検査物体の撮像画像とが突き合わされて、物体の同一部位に対応する画素毎に明度データのばらつきが演算される。ついで、この演算された明度データのばらつきの値が所定のしきい値以上になる部位の画素が求められ、この求めた画素からなるマスクパターンが設定される。ついで、そのマスクパターンを構成する画素を除外した上で、基準パターンの撮像画像と他の検査物体の撮像画像とが突き合わされてパターンマッチングが実行される。
請求項（抜粋）：
検査物体と、当該検査物体の基準パターンとを突き合わせて、その一致度合いを演算し、この演算された一致度合いの値に応じて前記検査物体の形状の良否を検査するパターンマッチングによる検査方法において、前記複数の検査物体をそれぞれ撮像する撮像行程と、前記撮像された複数の検査物体のうちの一の検査物体を基準パターンとして設定する基準パターン設定行程と、この基準パターンの撮像画像と他の検査物体の撮像画像とを突き合わせて、物体の同一部位に対応する画素毎に明度データのばらつきを演算する演算行程と、この演算された明度データのばらつきの値が所定のしきい値以上になる部位の画素を求め、この求めた画素からなるマスクパターンを設定するマスクパターン設定行程と、前記マスクパターンを構成する画素を除外した上で、前記基準パターンの撮像画像と他の検査物体の撮像画像とを突き合わせてパターンマッチングを実行する行程とを具えたパターンマッチングによる検査方法。
FI (3件)：
G06F 15/70 455 Z
, G06F 15/62 400
, G06F 15/70 460 D
