特許

J-GLOBAL ID：200903012530698533

光デイスクの製造方法

発明者： 藤島 俊彦 ,  矢野 公規 ,  山口 高正
出願人/特許権者： 出光石油化学株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-287078
公開番号（公開出願番号）：特開平5-101452
出願日： 1991年10月07日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：

【要約】【目的】 離型剤に起因した欠陥の発生を低減できる光ディスクの製造方法を提供する。【構成】 脂肪酸モノグリセリドを添加したポリカーボネート樹脂を成形してポリカーボネート基板を作製し、該ポリカーボネート基板を保管後、ポリカーボネート基板上に記録層を形成する光ディスクの製造方法において、ポリカーボネート基板の作製後7日以内に、該ポリカーボネート基板を40〜120°Cの範囲内の温度で加熱処理する。また、ポリカーボネート樹脂に添加する脂肪酸モノグリセリドの添加量を0.04重量%以下とする。

請求項（抜粋）：

脂肪酸モノグリセリドを添加したポリカーボネート樹脂を成形してポリカーボネート基板を作製し、該ポリカーボネート基板を保管後、ポリカーボネート基板上に記録層を形成する光ディスクの製造方法において、ポリカーボネート基板の作製後7日以内に、該ポリカーボネート基板を40〜120°Cの範囲内の温度で加熱処理することを特徴とした光ディスクの製造方法。

IPC (4件)：

G11B 7/26 521 ,  C08K 5/10 KKJ ,  C08L 69/00 LPU ,  G11B 7/24 526