特許
J-GLOBAL ID:200903012537780499
不揮発性半導体記憶装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-087642
公開番号(公開出願番号):特開2001-274364
出願日: 2000年03月27日
公開日(公表日): 2001年10月05日
要約:
【要約】【課題】読み出し動作の際に、印加電圧について十分な読み出しマージンを確保できる。【解決手段】本発明の不揮発性半導体記憶装置800は、複数のワード線WLと、複数のビット線MBL,SBLと、ソース22a、ドレイン22b、浮遊ゲート24および制御ゲート26によりそれぞれ構成される複数のメモリセルMであって、制御ゲートがワード線に接続されており、各メモリセルのソースと、同一のワード線に接続された隣接のメモリセルのドレインとが、共通して1本のビット線に接続されている仮想接地型のアレイ構造を有する、複数のメモリセルと、を備えており、複数のメモリセルのうち、1本のワード線に接続された複数の第1のメモリセルは2以上のグループに分けられ、1グループを単位に読み出し動作が行われるようになっており、隣接の2つのグループの間には、メモリセル間の電流の流れを阻止するためのアイソレーション手段ISが設けられている。
請求項(抜粋):
複数のワード線と、複数のビット線と、ソース領域、ドレイン領域、浮遊ゲートおよび制御ゲートによりそれぞれ構成される複数のメモリセルであって、制御ゲートがワード線に接続されており、各メモリセルのソース領域と、同一のワード線に接続された隣接のメモリセルのドレイン領域とが、共通して1本のビット線に接続されている仮想接地型のアレイ構造を有する、複数のメモリセルと、を備えており、該複数のメモリセルのうち、1本のワード線に接続された複数の第1のメモリセルは2以上のグループに分けられ、1グループを単位に読み出し動作が行われるようになっており、隣接の2つのグループの間には、メモリセル間の電流の流れを阻止するためのアイソレーション手段が設けられている、不揮発性半導体記億装置。
IPC (7件):
H01L 27/115
, G11C 16/04
, G11C 16/06
, G11C 16/02
, H01L 21/8247
, H01L 29/788
, H01L 29/792
FI (5件):
H01L 27/10 434
, G11C 17/00 622 C
, G11C 17/00 634 Z
, G11C 17/00 641
, H01L 29/78 371
Fターム (23件):
5B025AA03
, 5B025AB01
, 5B025AC01
, 5B025AD00
, 5B025AD04
, 5B025AD05
, 5B025AD08
, 5B025AE08
, 5F001AA01
, 5F001AB02
, 5F001AD60
, 5F083EP02
, 5F083EP27
, 5F083EP63
, 5F083GA06
, 5F083GA09
, 5F083KA08
, 5F083NA01
, 5F083NA10
, 5F083ZA21
, 5F101BA01
, 5F101BB02
, 5F101BD35
引用特許:
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