特許

J-GLOBAL ID：200903012550700313

画像におけるマーク部の欠陥検出方法

発明者： 野島 俊一
出願人/特許権者： アジアエレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-172979
公開番号（公開出願番号）：特開平7-027711
出願日： 1993年07月13日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：

【要約】【目的】画像のマーク検査の検出結果の精度向上。【構成】被検査画像のマーク部に対する欠陥部の比率を上げるため、前記被検査画像に応じたリファレンス画像のマーク部と背景部とを区別する2値画像を得、この2値画像をもとに前記マーク部以外をマスクするマスクステップと、前記2値画像の背景部を基準値として、この基準地と前記マーク部との間の階調を広げる階調変換ステップと、このステップで得られた階調変換出力を、前記被検査画像の平均濃度の減算に関与しない演算により、前記被検査画像につき、目視相当濃度の値で得る演算ステップとを具備したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被検査画像のマーク部の欠陥部分の検出比率を上げるため、前記被検査画像に応じたリファレンス画像のマーク部と背景部とを区別する2値画像を得、この2値画像をもとに前記マーク部以外をマスクするためのマスクステップと、前記2値画像の背景部の濃度を基準値とすることによって、この基準値と前記マーク部の濃度との間の階調を実質的に広げる操作を前記リファレンス画像及び被検査画像について行う階調変換ステップと、このステップで得られた階調変換出力に対し、前記マスクステップで得たマスク情報でマスク操作を行って前記被検査画像の平均濃度の減算に関与しない相関演算を行うことにより、前記被検査画像の画素濃度の情報を得る演算ステップと、このステップの前記相関演算の結果に応じて前記被検査画像の欠陥の大きさを識別する判定ステップとを具備したことを特徴とする画像におけるマーク部の欠陥検出方法。

IPC (2件)：

G01N 21/88 ,  G06T 7/00

FI (2件)：

G06F 15/62 410 A ,  G06F 15/70 460 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• パターン評価方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-126814   出願人：株式会社東芝