特許
J-GLOBAL ID:200903012563931802
光ディスク及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
前田 純博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-043369
公開番号(公開出願番号):特開平5-242527
出願日: 1992年02月28日
公開日(公表日): 1993年09月21日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 光ディスク全体としての反りの管理も容易で反り量も低く抑えることができる光ディスクおよびその製造方法。【構成】 少なくとも光照射面(読み取り面)を樹脂塗膜で被覆してなる光ディスクに於いて,該被覆膜の膜厚が下記式(1)を満足することを特徴とする光ディスク、およびこの光ディスクの製造に際して、被塗物に対する接触角が25°Cで測定して25度以下の塗工液を用い、スクリーン印刷法、スプレー法、ロールコート法のいずれかの塗膜形成法により塗布し、ついで光ディスクを水平に保持して硬化させ、膜厚が前記式(1)を満足する樹脂塗膜からなる被覆膜を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。1000x (Do -Di )/(Ro -Ri )<0.02・・・(1)
請求項(抜粋):
少なくとも光照射面(読み取り面)を樹脂塗膜で被覆してなる光ディスクに於いて,該被覆膜の膜厚が下記式(1)を満足することを特徴とする光ディスク。 1000x (Do -Di )/(Ro -Ri )<0.02・・・(1) [但し Do :記録膜成膜部の最外周部の被覆膜厚(mm) Di :記録膜成膜部の最内周部の被覆膜厚(mm) Ro :記録膜成膜部の最外周部の半径(mm) Ri :記録膜成膜部の最内周部の半径(mm) ]
IPC (3件):
G11B 7/24 536
, G11B 7/26 531
, G11B 11/10
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
特開平1-182944
-
特開昭63-193342
-
特開平3-181036
前のページに戻る