特許

J-GLOBAL ID：200903012565786397

炭酸ガス生成装置及び炭酸ガス生成方法

発明者： 林 佑二 ,  柳田 博明 ,  久保 幸雄
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  財団法人ファインセラミックスセンター
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-087113
公開番号（公開出願番号）：特開平11-278824
出願日： 1998年03月31日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】本発明は、安価で入手し易いガスを原料として効率的に炭酸ガスを製造可能な炭酸ガス生成方法、及びこの炭酸ガス生成方法を用いた簡易型・移動型の炭酸ガス製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】炭酸ガス生成装置は、入力ガスを受け取り出力ガスを排出するガス反応空間を形成する容器と、第1の電極と、該ガス反応空間内で該第1の電極との間にプラズマ放電を生成する第2の電極と、該ガス反応空間に位置される触媒金属を含む第1の部材と、該ガス反応空間に位置される炭素を含む第2の部材を含み、H2 Oと酸素との混合ガスが該入力ガスとして注入されると該プラズマ放電と該触媒金属による触媒反応とのシナジー効果によって該混合ガス及び該炭素が化学反応を起こし該出力ガスとして炭酸ガスを含むガスを生成する。

請求項（抜粋）：

入力ガスを受け取り出力ガスを排出するガス反応空間を形成する容器と、第1の電極と、該ガス反応空間内で該第1の電極との間にプラズマ放電を生成する第2の電極と、該ガス反応空間に位置される触媒金属を含む第1の部材と、該ガス反応空間に位置される炭素を含む第2の部材を含み、H2 Oと酸素との混合ガスが該入力ガスとして注入されると該プラズマ放電と該触媒金属による触媒反応とのシナジー効果によって該混合ガス及び該炭素が化学反応を起こし該出力ガスとして炭酸ガスを含むガスを生成する炭酸ガス生成装置。

IPC (3件)：

C01B 31/20 ,  B01J 19/08 ,  B01J 19/14

FI (3件)：

C01B 31/20 A ,  B01J 19/08 C ,  B01J 19/14