特許
J-GLOBAL ID:200903012583043105

高分子成型体へのグラフト鎖導入法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-324650
公開番号(公開出願番号):特開平7-179630
出願日: 1993年12月22日
公開日(公表日): 1995年07月18日
要約:
【要約】【目的】 グラフト鎖を高い効率で基材表面に導入することが可能な高分子成型体へのグラフト鎖導入法を提供する。【構成】 基材である高分子成型体の表面にあらかじめ、放射線照射により活性化されやすい構造の化合物を導入しておき、これに放射線を照射し、その後ビニルモノマーのえきに浸漬して、該モノマーを重合させて、基材表面に該モノマーの重合体を固定する。
請求項(抜粋):
放射線照射によって活性化されやすい構造の化合物をあらかじめ導入した高分子成型体に放射線を照射した後、ビニルモノマー溶液に浸漬することによって該ビニルモノマーを重合せしめ、該高分子成型体表面にグラフト鎖として固定化することを特徴とする放射線照射による高分子成型体へのグラフト鎖導入法。
IPC (4件):
C08J 7/00 305 ,  C08J 7/16 CFD ,  D04H 1/54 ,  D06M 14/32

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