特許
J-GLOBAL ID:200903012583696370
高い磁気抵抗効果を有する構造の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
富村 潔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-261932
公開番号(公開出願番号):特開平6-283367
出願日: 1993年09月24日
公開日(公表日): 1994年10月07日
要約:
【要約】【目的】 物質系Cu-Coをベースとし高い磁気抵抗効果を有する構造の製造方法を、比較的簡単な方法で特に8%以上の高い磁気抵抗効果を有する特に層状又は帯状の構造が得られるように、またこの特性の良好な再現性が保証されるように改善する。【構成】 まずCoを過飽和にさせたCu混晶を含む合金から成る構造の中間製品が急速凝固技術により形成され、続いてこの中間製品が所定の熱処理によりCuマトリックス中にCoから成るか又はこれを含む析出物を含有する所望の構造の最終製品へ転換される。
請求項(抜粋):
物質系Cu-Coをベースとし高い磁気抵抗効果を有する構造の製造方法において、まずCoを過飽和にさせたCu混晶を含む合金から成る構造の中間製品が急速凝固技術により形成され、続いてこの中間製品が所定の熱処理によりCuマトリックス中にCoから成るか又はこれを含む析出物を含有する所望の構造の最終製品へ転換されることを特徴とする高い磁気抵抗効果を有する構造の製造方法。
IPC (11件):
H01F 41/22
, B22D 11/06 360
, C22C 1/02
, C22C 1/02 503
, C22C 9/00
, C22C 9/06
, C30B 23/06
, C30B 29/36
, G01N 27/72
, H01F 10/16
, H01L 43/12
前のページに戻る