特許
J-GLOBAL ID：200903012591621797
電子ビーム寸法測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-230777
公開番号（公開出願番号）：特開平6-074742
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】【目的】 被測定物上の微細パターンが徐行し、または対向していなくとも寸法の測定が可能な電子ビーム寸法測定装置を提供する。【構成】 測定領域内に電子ビームを順次走査して検出される各エッジ近傍の信号波形を順次記憶して各走査線毎のエッジ近傍の各信号波形を比較し類似のものをグループ化するとともに、このグループ化された各信号波形の座標位置を基にパターンエッジの直線近似を行うことにより両直線間の寸法を算出する。
請求項（抜粋）：
被測定物の微細パターン上に電子ビームを走査し発生する二次電子に基づいてディスプレイ上に上記微細パターン像を表示するとともに、上記微細パターン像内の測定領域に電子ビームを走査し検出されるエッジの間隔から両直線間の寸法を算出するようにした電子ビーム寸法測定装置において、上記測定領域内に上記電子ビームを順次走査して検出される各エッジ近傍の信号波形を順次記憶して各走査線毎の上記エッジ近傍の各信号波形を比較し類似のものをグループ化するとともに、このグループ化された各信号波形の座標位置を基にパターンエッジの直線近似を行うことにより両直線間の寸法を算出するようにしたことを特徴とする電子ビーム寸法測定装置。
IPC (3件)：
G01B 15/00
, H01J 37/22
, H01J 37/28
