特許

J-GLOBAL ID：200903012591879670

コンダクタートラック構造物およびその製造方法

発明者： ナウンドルフ・ゲルハルト ,  ヴィスブロック・ホルスト
出願人/特許権者： エル・ピー・ケー・エフ・レーザー・ウント・エレクトロニクス・アクチエンゲゼルシヤフト
代理人 (4件)： 江崎 光史 ,  三原 恒男 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-511603
公開番号（公開出願番号）：特表2004-534408
出願日： 2002年06月19日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】比較的に僅かな割合で核形成性添加物を含有しそして更に溶接温度でも安定している、簡単かつ正確に製造すべきコンダクタートラック構造を回路基板の上への提供。【解決手段】この課題は、基板材料中に含まれる微細な非導電性金属化合物を電磁線の使用によって砕くことによって生じる金属核および続いてこれに施される金属化物よりなる非導電性基板材料上に設けたコンダクタートラック構造物において、非導電性金属化合物が、熱的に高安定性があり、酸性またはアルカリ性の水性金属化浴中において耐久性があり、そしてスピネル構造を有する高酸化物であるかまたは簡単なd-金属酸化物またはその混合物であるかまたはスピネル構造に類似する混合金属酸化物である不溶性無機系酸化物から形成されておりそしてその非導電性金属化合物が未照射領域において未変化のままであることを特徴とする、上記コンダクタートラック構造物によって解決される。

請求項（抜粋）：

基板材料中に含まれる微細な非導電性金属化合物を電磁線の使用によって砕くことによって生じる金属核および続いてこれに施される金属化物よりなる非導電性基板材料上に設けたコンダクタートラック構造物において、非導電性金属化合物が、熱的に高安定性があり、酸性またはアルカリ性の水性金属化浴中において耐久性があり、そしてスピネル構造を有する高酸化物であるかまたは簡単なd-金属酸化物またはその混合物であるかまたはスピネル構造に類似する混合金属酸化物である不溶性無機系酸化物から形成されておりそしてその非導電性金属化合物が未照射領域において未変化のままであることを特徴とする、上記コンダクタートラック構造物。

IPC (5件)：

H05K3/18 ,  C23C18/18 ,  C23C18/20 ,  C23C18/38 ,  H05K3/10

FI (5件)：

H05K3/18 B ,  C23C18/18 ,  C23C18/20 A ,  C23C18/38 ,  H05K3/10 C

Fターム (20件)：

4K022AA02 ,  4K022AA13 ,  4K022AA32 ,  4K022AA42 ,  4K022BA08 ,  4K022BA35 ,  4K022CA04 ,  4K022CA12 ,  4K022DA01 ,  5E343AA02 ,  5E343AA12 ,  5E343AA16 ,  5E343BB71 ,  5E343CC71 ,  5E343DD33 ,  5E343ER02 ,  5E343ER45 ,  5E343GG06 ,  5E343GG11 ,  5E343GG16