特許
J-GLOBAL ID:200903012595874959

薄膜層の作成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  出野 知 ,  蛯谷 厚志 ,  高橋 正俊
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-526067
公開番号(公開出願番号):特表2009-506200
出願日: 2006年08月02日
公開日(公表日): 2009年02月12日
要約:
蒸発した材料のビームが、反射体の衝突面に衝突して、当該反射体からシャドウマスク内の1以上の開口を通って堆積基板上へと方向が変えられるように、前記蒸発した材料のビームを前記反射体の方向に向けて、パターン化された材料層を形成することを含む、パターン化層の作成方法。
請求項(抜粋):
蒸発した材料のビームが、反射体の衝突面に衝突して、当該反射体からシャドウマスク内の1以上の開口を通って堆積基板上へと方向が変えられるように、前記蒸発した材料のビームを前記反射体の方向に向けて、パターン化された材料層を形成することを含む、パターン化層の作成方法。
IPC (9件):
C23C 14/24 ,  C23C 14/12 ,  C23C 14/04 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  H01L 51/05 ,  H01L 51/40
FI (10件):
C23C14/24 S ,  C23C14/12 ,  C23C14/04 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 627C ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/28 310J ,  H01L29/78 618A
Fターム (54件):
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC42 ,  3K107CC45 ,  3K107FF15 ,  3K107FF16 ,  3K107GG04 ,  3K107GG32 ,  3K107GG33 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029BD01 ,  4K029CA00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA11 ,  4K029CA15 ,  4K029DA10 ,  4K029DB06 ,  4K029DB11 ,  4K029EA01 ,  4K029EA03 ,  4K029HA01 ,  4K029HA02 ,  5F110AA16 ,  5F110AA28 ,  5F110BB01 ,  5F110CC03 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE07 ,  5F110EE09 ,  5F110EE42 ,  5F110EE43 ,  5F110FF01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF27 ,  5F110GG02 ,  5F110GG04 ,  5F110GG05 ,  5F110GG15 ,  5F110GG42 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK07 ,  5F110HK32 ,  5F110HK34

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