特許
J-GLOBAL ID:200903012595874959
薄膜層の作成方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 出野 知
, 蛯谷 厚志
, 高橋 正俊
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-526067
公開番号(公開出願番号):特表2009-506200
出願日: 2006年08月02日
公開日(公表日): 2009年02月12日
要約:
蒸発した材料のビームが、反射体の衝突面に衝突して、当該反射体からシャドウマスク内の1以上の開口を通って堆積基板上へと方向が変えられるように、前記蒸発した材料のビームを前記反射体の方向に向けて、パターン化された材料層を形成することを含む、パターン化層の作成方法。
請求項(抜粋):
蒸発した材料のビームが、反射体の衝突面に衝突して、当該反射体からシャドウマスク内の1以上の開口を通って堆積基板上へと方向が変えられるように、前記蒸発した材料のビームを前記反射体の方向に向けて、パターン化された材料層を形成することを含む、パターン化層の作成方法。
IPC (9件):
C23C 14/24
, C23C 14/12
, C23C 14/04
, H05B 33/10
, H01L 51/50
, H01L 29/786
, H01L 21/336
, H01L 51/05
, H01L 51/40
FI (10件):
C23C14/24 S
, C23C14/12
, C23C14/04 A
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H01L29/78 618B
, H01L29/78 627C
, H01L29/28 100A
, H01L29/28 310J
, H01L29/78 618A
Fターム (54件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC42
, 3K107CC45
, 3K107FF15
, 3K107FF16
, 3K107GG04
, 3K107GG32
, 3K107GG33
, 4K029BA62
, 4K029BB03
, 4K029BD01
, 4K029CA00
, 4K029CA01
, 4K029CA11
, 4K029CA15
, 4K029DA10
, 4K029DB06
, 4K029DB11
, 4K029EA01
, 4K029EA03
, 4K029HA01
, 4K029HA02
, 5F110AA16
, 5F110AA28
, 5F110BB01
, 5F110CC03
, 5F110CC07
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110EE01
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE07
, 5F110EE09
, 5F110EE42
, 5F110EE43
, 5F110FF01
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF27
, 5F110GG02
, 5F110GG04
, 5F110GG05
, 5F110GG15
, 5F110GG42
, 5F110HK01
, 5F110HK02
, 5F110HK03
, 5F110HK04
, 5F110HK07
, 5F110HK32
, 5F110HK34
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