特許

J-GLOBAL ID：200903012601712150

ホトレジスト塗布装置

発明者： 上原 美千代 ,  田宮 洋一郎 ,  金井 昭司 ,  黒岩 慶造 ,  大金 信哉
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-295776
公開番号（公開出願番号）：特開平6-151294
出願日： 1992年11月05日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：

【要約】【目的】 レジストタンク内のホトレジストの濃度均一化。【構成】 ホトレジスト塗布装置は、レジストタンク10のホトレジスト4を汲み上げてノズル5の先端からスピンチャック2上のウエハ1に滴下供給し、かつウエハ1を回転させてウエハ1の表面にホトレジスト膜を形成する。レジストタンク10の下部と、レジストタンク10の上部間に、途中に循環ポンプ21を有する循環パイプ20が連結される。循環ポンプ21の駆動によってレジストタンク10の下層のホトレジスト4は、レジストタンク10の上層に戻される。この動作によってホトレジスト4の循環が起き、レジストタンク10内のホトレジスト4の濃度は均一化される。常に濃度が均一なホトレジスト4がウエハ1に供給されることから、ウエハ表面のホトレジスト膜の膜質,膜厚は均一となる。

請求項（抜粋）：

レジストタンク内のホトレジストをポンプで汲み上げるとともに、スピンナノズルの先端からスピンチャック上のウエハ上にホトレジストを滴下供給するホトレジスト塗布装置であって、前記レジストタンク内のホトレジストを均質となるように流動させる流動化装置を有することを特徴とするホトレジスト塗布装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/16 502 ,  B05C 11/08