特許

J-GLOBAL ID：200903012602313984

回転式基板処理装置および回転式基板処理方法

発明者： 矢部 学
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-047422
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246362
出願日： 1996年03月05日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】 基板が確実に保持され、かつ基板の取り出しが円滑に行われる回転式基板処理装置および回転式基板処理方法を提供することである。【解決手段】 基板回転保持装置1の回転部材2の上面に、基板100の裏面を垂直に支持する複数の垂直方向支持部材5、および基板100の外周端面に当接して基板100の水平位置を規制する複数の水平方向支持部材6が設けられている。回転部材2には複数の貫通孔7が形成されている。複数の貫通孔7の下方には、昇降ピン8がエアシリンダ9により昇降自在に配設されている。各昇降ピン8には超音波振動子10が取り付けられている。基板回転保持装置1の回転終了後、超音波振動子10が超音波振動した状態で昇降ピン8が貫通孔7を貫通して上昇し、基板100の裏面に当接する。

請求項（抜粋）：

基板を水平姿勢で回転させながら前記基板に所定の処理を行う回転式基板処理装置であって、前記基板の裏面を支持するとともに前記基板の外周端面に当接して前記基板の水平位置を規制する基板保持手段と、前記基板保持手段を鉛直方向の軸の回りで回転駆動する回転駆動手段と、前記基板保持手段により保持された前記基板または前記基板保持手段に振動を与える振動付与手段とを備えたことを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/68 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (6件)：

H01L 21/68 N ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/30 564 C