特許

J-GLOBAL ID：200903012602975499

薄膜形成方法、基材、光学フィルム及び画像表示素子

発明者： 福田 和浩 ,  大石 清 ,  近藤 慶和 ,  戸田 義朗 ,  辻 稔夫
出願人/特許権者： コニカ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-296651
公開番号（公開出願番号）：特開2003-105548
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：

【要約】【課題】 高機能性の薄膜を形成する薄膜形成方法、該薄膜を有する基材、該基材を有する光学フィルムおよび該光学フィルムを有する画像表示素子を提供する。【解決手段】 大気圧又は大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に反応ガス及び不活性ガスを含有する気体を存在させて高周波電圧を印加することにより放電プラズマを発生させ、基材を前記放電プラズマに晒すことによって前記基材上に薄膜を形成する薄膜形成方法において、前記放電プラズマに晒されている間の前記基材の表面温度の最高温度が100〜400°Cであることを特徴とする薄膜形成方法。

請求項（抜粋）：

大気圧又は大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に反応ガス及び不活性ガスを含有する気体を存在させて高周波電圧を印加することにより放電プラズマを発生させ、基材を前記放電プラズマに晒すことによって前記基材上に薄膜を形成する薄膜形成方法において、前記放電プラズマに晒されている間の前記基材の表面温度の最高温度が100〜400°Cであることを特徴とする薄膜形成方法。

IPC (4件)：

C23C 16/509 ,  B01J 19/08 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/24

FI (4件)：

C23C 16/509 ,  B01J 19/08 H ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/24

Fターム (62件)：

4G075AA24 ,  4G075BC04 ,  4G075CA02 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075CA51 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EC21 ,  4G075FB01 ,  4G075FC15 ,  4K030AA04 ,  4K030AA09 ,  4K030AA11 ,  4K030AA16 ,  4K030BA07 ,  4K030BA14 ,  4K030BA30 ,  4K030BA42 ,  4K030BA43 ,  4K030BA44 ,  4K030BA45 ,  4K030BA50 ,  4K030FA03 ,  4K030JA06 ,  4K030JA10 ,  4K030JA16 ,  4K030JA18 ,  4K030KA24 ,  4K030LA03 ,  4K030LA16 ,  4K030LA20 ,  5F045AA08 ,  5F045AB02 ,  5F045AB04 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AB37 ,  5F045AC02 ,  5F045AC07 ,  5F045AC08 ,  5F045AC09 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045AD05 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AE25 ,  5F045AE29 ,  5F045AF07 ,  5F045BB07 ,  5F045DP22 ,  5F045EB11 ,  5F045EE12 ,  5F045EH04 ,  5F045EH07 ,  5F045EH08 ,  5F045EH12 ,  5F045EH19 ,  5F045EK07