特許

J-GLOBAL ID：200903012637743493

2-ヒドロキシカルボニルエチルアルキルホスフィン酸の製造方法および反応性難燃剤

発明者： 志村 征爾 ,  田口 純二 ,  柳井 富雄 ,  船橋 康子
出願人/特許権者： 日本化学工業株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-081436
公開番号（公開出願番号）：特開平5-247068
出願日： 1992年03月04日
公開日（公表日）： 1993年09月24日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 2-ヒドロキシカルボニルエチルアルキルホスフィン酸を高収率、高純度で製造する方法、その得られた特定化合物からなる反応性難燃剤を提供する。【構成】 次亜リン酸又は次亜リン酸塩と炭素原子数4〜12のアルケンとをアルコール溶媒中でラジカル開始剤の存在下で反応させて、アルキルホスフィン酸を生成させる第一工程、次いで該生成物とアクリル酸エステル又はメタアクリル酸エステルとをラジカル開始剤の存在下で反応させて2-ヒドロキシカルボニルエチルアルキルホスフィン酸エステルを生成させる第二工程、次いで該エステルを加水分解する第三工程よりなる下記一般式(R1 は炭素原子数4〜12のアルキル基を、R2 水素原子又はメチル基を示す)で表される2-ヒドロキシカルボニルエチルアルキルホスフィン酸の製造方法。不純物含有量が10重量%以下である反応性難燃剤。

請求項（抜粋）：

次亜リン酸または次亜リン酸塩と炭素原子数4〜12のアルケンとをアルコール溶媒中でラジカル開始剤の存在下で反応させて、下記一般式(1)【化1】(式中、R1 は炭素原子数4〜12のアルキル基を示す)で表されるアルキルホスフィン酸を生成させる第一工程、次いで該生成物とアクリル酸エステルまたはメタアクリル酸エステルとをラジカル開始剤の存在下で反応させて2-ヒドロキシカルボニルエチルアルキルホスフィン酸エステルを生成させる第二工程、次いで該エステルを加水分解する第三工程よりなることを特徴とする下記一般式(2)【化2】(式中、R1 は前記と同義、R2 水素原子又はメチル基を示す)で表される2-ヒドロキシカルボニルエチルアルキルホスフィン酸の製造方法。

IPC (4件)：

C07F 9/30 ,  C08G 63/692 NNM ,  C08G 69/42 NSN ,  C09K 21/12

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭60-087293
  
• 特開昭59-110698
  
• 特開平1-268695