特許
J-GLOBAL ID:200903012638000869

電磁波シールド性光透過窓材の製造方法及び電磁波シールド性光透過窓材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 江藤 聡明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-332642
公開番号(公開出願番号):特開2007-142080
出願日: 2005年11月17日
公開日(公表日): 2007年06月07日
要約:
【課題】メッシュ状の導電層上に均一な膜厚でメッキ層を形成して、電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法及びそのために有利な簡易なメッキ装置を提供する。【解決手段】透明基板21上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドット22を形成する工程(1)、ドット22が形成された透明基板21のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも1種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層23を形成する工程(2-1)、第一防眩層23上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層24を形成する工程(3)、及びドット22、第一防眩層23及び金属導電層24を有する透明基板21の少なくともドット22に、溶剤を接触させてドット22及びドット22上の二層を除去する工程(4-1)を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法;及び電磁波シールド性光透過窓材。【選択図】図2
請求項(抜粋):
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程(1)、 ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも1種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程(2-1)、 第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程(3)、及び ドット、第一防眩層及び金属導電層を有する透明基板に、前記溶剤を接触させてドット及びドット上の二層を除去する工程(4-1) を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
IPC (4件):
H05K 9/00 ,  B32B 7/02 ,  B32B 9/00 ,  B32B 15/08
FI (5件):
H05K9/00 V ,  B32B7/02 103 ,  B32B7/02 104 ,  B32B9/00 A ,  B32B15/08 E
Fターム (65件):
4F100AA01E ,  4F100AA07C ,  4F100AA08C ,  4F100AA12C ,  4F100AA12E ,  4F100AA17D ,  4F100AA37C ,  4F100AA37E ,  4F100AB01C ,  4F100AB01D ,  4F100AB11C ,  4F100AB11E ,  4F100AB12C ,  4F100AB12E ,  4F100AB15C ,  4F100AB15E ,  4F100AB16C ,  4F100AB16E ,  4F100AB17C ,  4F100AB17E ,  4F100AB21C ,  4F100AB21E ,  4F100AB24C ,  4F100AB24E ,  4F100AB31D ,  4F100AK21B ,  4F100AK42 ,  4F100AL05C ,  4F100AT00A ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100DC16C ,  4F100DC21B ,  4F100EH71 ,  4F100EH712 ,  4F100EJ30 ,  4F100EJ302 ,  4F100EJ53 ,  4F100EJ532 ,  4F100GB41 ,  4F100GB56 ,  4F100HB31 ,  4F100HB31B ,  4F100JB08B ,  4F100JD06 ,  4F100JD08 ,  4F100JG01D ,  4F100JL10E ,  4F100JM01B ,  4F100JN01 ,  4F100JN01A ,  4F100JN30 ,  4F100JN30C ,  4F100JN30E ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4F100YY00E ,  5E321BB23 ,  5E321BB41 ,  5E321BB53 ,  5E321GG05 ,  5E321GH01
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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