特許
J-GLOBAL ID：200903012642263904

反射防止膜形成用塗布液及び反射防止積層体

発明者：
齋藤 浩一

齋藤 浩一 について

, 
前島 勝己

前島 勝己 について

, 
渋江 俊明

渋江 俊明 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタオプト株式会社

コニカミノルタオプト株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-327470
公開番号（公開出願番号）：特開2005-091990
出願日： 2003年09月19日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：
【課題】 反射防止積層体に好適な中屈折率層及び高屈折率層形成用塗布液、並びに大量生産に適し、光学特性、物理的特性、耐光性、帯電防止性に優れた反射防止膜形成用塗布液及び反射防止積層体を提供すること。【解決手段】 金属酸化物微粒子を含有する反射防止膜形成用塗布液において、該金属酸化物微粒子の総量を100質量%としたとき、粒径D1が70nm≦D1≦200nmであるコア/シェル構造を有する金属酸化物微粒子の添加量が60〜90質量%、粒径D2が5nm≦D2≦20nmである金属酸化物微粒子の添加量が10〜40質量%であることを特徴とする反射防止膜形成用塗布液。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
金属酸化物微粒子を含有する反射防止膜形成用塗布液において、該金属酸化物微粒子の総量を100質量%としたとき、粒径D1が70nm≦D1≦200nmであるコア/シェル構造を有する金属酸化物微粒子の添加量が60〜90質量%、粒径D2が5nm≦D2≦20nmである金属酸化物微粒子の添加量が10〜40質量%であることを特徴とする反射防止膜形成用塗布液。
IPC (2件)：
G02B1/11 ,  B32B9/00
FI (2件)：
G02B1/10 A ,  B32B9/00 A
Fターム (49件)：
2K009AA05 ,  2K009AA06 ,  2K009AA15 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009EE00 ,  2K009EE03 ,  2K009FF02 ,  4F100AA17C ,  4F100AA17D ,  4F100AA19C ,  4F100AA19D ,  4F100AA20E ,  4F100AA21C ,  4F100AA21D ,  4F100AA27C ,  4F100AA27D ,  4F100AA28C ,  4F100AA28D ,  4F100AA29C ,  4F100AA29D ,  4F100AA33C ,  4F100AA33D ,  4F100AR00B ,  4F100AR00C ,  4F100AR00D ,  4F100AR00E ,  4F100AT00A ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100DE01C ,  4F100DE01D ,  4F100EH46B ,  4F100GB41 ,  4F100JG03 ,  4F100JK06 ,  4F100JK12 ,  4F100JK12B ,  4F100JK14 ,  4F100JM01E ,  4F100JN00 ,  4F100JN06 ,  4F100JN18C ,  4F100JN18D ,  4F100JN18E ,  4F100YY00C ,  4F100YY00D
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)

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