特許
J-GLOBAL ID:200903012661740276

液体または超臨界のCO2中における顔料の仕上げ処理

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川口 義雄 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-543658
公開番号(公開出願番号):特表2003-524686
出願日: 2000年11月16日
公開日(公表日): 2003年08月19日
要約:
【要約】本発明は、有機顔料の後処理方法に関する。本発明の方法は、任意に粉砕した有機純粋顔料と、液体または超臨界の二酸化炭素とを反応させることを特徴とする。
請求項(抜粋):
粉砕または未粉砕の未処理有機顔料と、液体または超臨界の二酸化炭素とを相互に作用させることを含む有機顔料の後処理方法。
IPC (2件):
C09B 67/10 ,  C09B 67/48
FI (2件):
C09B 67/10 ,  C09B 67/48 B

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