特許
J-GLOBAL ID:200903012664956555

撥水性薄膜およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-290586
公開番号(公開出願番号):特開平8-127865
出願日: 1994年10月31日
公開日(公表日): 1996年05月21日
要約:
【要約】【目的】 膜の硬度が高く、水に対する接触角が大きく撥水性に優れた撥水性薄膜およびその製造方法を提供する。【構成】 基材表面に、一般式(A):(R2SiO)n(RHSiO)m、(B):R2R'SiO(R2SiO)n(RHSiO)pSiR2R'、(C):R4-xSi(OSiR2H)xで表されるオルガノシロキサンよりなる群から選択されるケイ素原子結合水素原子含有オルガノシロキサンをプラズマ重合させてなる撥水性薄膜。
請求項(抜粋):
基材表面に、一般式(A):(R2SiO)n(RHSiO)m(式中、Rは炭素数1〜18の一価炭化水素基であり、nは0以上の整数であり、mは3〜20の整数である。)で表されるオルガノ環状シロキサン、一般式(B):R2R'SiO(R2SiO)n(RHSiO)pSiR2R'(式中、Rは炭素数1〜18の一価炭化水素基であり、R'は炭素数1〜18の一価炭化水素基もしくはケイ素原子結合水素原子であり、nは0以上の整数であり、pは1〜20の整数である。但し、該オルガノシロキサン中に含まれるケイ素原子結合水素原子の数は3以上である。)で表される線状オルガノシロキサンおよび一般式(C):R4-xSi(OSiR2H)x(式中、Rは炭素数1〜18の一価炭化水素基であり、xは3または4である。)で表されるオルガノシロキサンよりなる群から選択されるケイ素原子結合水素原子含有オルガノシロキサンをプラズマ重合させてなる撥水性薄膜。
IPC (2件):
C23C 14/20 ,  C08G 77/06 NVB
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭61-239083
  • 機能性有機膜
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-055623   出願人:伊藤忠ファインケミカル株式会社, 村山洋一

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