液晶表示装置及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金田暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-243464
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066587
出願日： 1999年08月30日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：

【要約】【課題】画素開口率を極力大きくとり、特に光学系からの反射光のチャネルへの入射を抑制することのできるライトバルブなどの液晶表示装置を工程数の増加を招くことなく提供する。【解決手段】透明絶縁性基板上に、下部遮光膜、該下部遮光膜上に層間膜を介してポリシリコンからなる活性層、ゲート絶縁膜、ゲート線に接続されたゲート電極を順次形成した薄膜トランジスタ(TFT)、該TFTにデータ信号を入力するデータ線、該データ線上に入射光を遮光するブラックマトリクスとを有し、前記ゲート線とデータ線とが交差する部分に前記TFTの活性層が形成されている液晶表示装置において、少なくとも前記活性層形成領域における下部遮光膜とデータ線とが略等しい幅で形成されていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

透明絶縁性基板上に、下部遮光膜、該下部遮光膜上に層間膜を介してポリシリコンからなる活性層、ゲート絶縁膜、ゲート線に接続されたゲート電極を順次形成した薄膜トランジスタ(TFT)、該TFTにデータ信号を入力するデータ線、該データ線上に入射光を遮光するブラックマトリクスとを有し、前記ゲート線とデータ線とが交差する部分に前記TFTの活性層が形成されている液晶表示装置において、少なくとも前記活性層形成領域における下部遮光膜とデータ線とが略等しい幅で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。

IPC (4件)：

G02F 1/1335 500 , G02F 1/1368 , G09F 9/30 338 , H01L 29/786

FI (4件)：

G02F 1/1335 500 , G09F 9/30 338 , G02F 1/136 500 , H01L 29/78 619 B

Fターム (84件)：

2H091FA34Y , 2H091FA35Y , 2H091FB08 , 2H091FC02 , 2H091FC26 , 2H091FD04 , 2H091GA02 , 2H091GA07 , 2H091GA13 , 2H091LA03 , 2H091MA07 , 2H092JB23 , 2H092JB26 , 2H092JB32 , 2H092JB33 , 2H092JB35 , 2H092JB51 , 2H092JB52 , 2H092KA04 , 2H092KA07 , 2H092KA10 , 2H092KA12 , 2H092KA18 , 2H092KB04 , 2H092KB25 , 2H092MA07 , 2H092MA13 , 2H092MA17 , 2H092MA27 , 2H092MA30 , 2H092NA21 , 2H092PA09 , 2H092RA05 , 5C094AA16 , 5C094AA25 , 5C094AA44 , 5C094BA03 , 5C094BA44 , 5C094CA19 , 5C094DA13 , 5C094EA04 , 5C094EA05 , 5C094EB02 , 5C094ED15 , 5C094FB12 , 5C094FB15 , 5C094HA08 , 5F110AA06 , 5F110AA16 , 5F110BB01 , 5F110CC02 , 5F110DD02 , 5F110DD13 , 5F110DD17 , 5F110EE08 , 5F110EE09 , 5F110FF02 , 5F110FF09 , 5F110FF30 , 5F110FF32 , 5F110GG02 , 5F110GG13 , 5F110GG15 , 5F110GG32 , 5F110GG34 , 5F110GG47 , 5F110HJ01 , 5F110HJ04 , 5F110HJ13 , 5F110HL03 , 5F110HL04 , 5F110HL11 , 5F110HM15 , 5F110NN02 , 5F110NN03 , 5F110NN23 , 5F110NN24 , 5F110NN27 , 5F110NN35 , 5F110NN44 , 5F110NN46 , 5F110NN54 , 5F110NN72 , 5F110PP03

引用特許：

審査官引用 (2件)

液晶表示装置とその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-214087 出願人：三洋電機株式会社
特開昭58-159520

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