特許
J-GLOBAL ID:200903012708650858

金属箔メッシュの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 末成 幹生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-076183
公開番号(公開出願番号):特開2002-275661
出願日: 2001年03月16日
公開日(公表日): 2002年09月25日
要約:
【要約】【課題】 金属箔が金属メッキされたものであっても、コーターやラミネーターなどの製造ラインを汚すことなく、かつ簡易な工程で、優れた光透過性と電磁波遮蔽性を併せ持つ単体の金属箔メッシュを製造することができる方法を提供する。【解決手段】 金属箔1の両面にフォトレジスト層2を形成し、一方のフォトレジスト層2に所定のメッシュパターンを露光し、他方のフォトレジスト層2を全面露光して現像レジスト部4を形成する。次いで、フォトレジスト層の未現像部5を除去し、その除去部分に対応する金属箔1をエッチングし、その後、金属箔1の両面の現像レジスト部4を同時に除去し、金属箔メッシュ単体10を製造する。
請求項(抜粋):
金属箔の両面にフォトレジスト層を形成する工程と、前記フォトレジスト層の一方に所定のメッシュパターンを露光し、他方のフォトレジスト層を全面露光して現像レジスト部を形成する工程と、前記フォトレジスト層の未現像部を除去し、該除去部分に対応する前記金属箔をエッチングする工程と、前記現像レジスト部を除去する工程とを備えることを特徴とする金属箔メッシュの製造方法。
IPC (2件):
C23F 1/00 ,  H05K 9/00
FI (2件):
C23F 1/00 Z ,  H05K 9/00 V
Fターム (13件):
4K057WA10 ,  4K057WB02 ,  4K057WB03 ,  4K057WB04 ,  4K057WB05 ,  4K057WN01 ,  4K057WN10 ,  5E321BB23 ,  5E321BB41 ,  5E321BB44 ,  5E321BB53 ,  5E321GG05 ,  5E321GH01
引用特許:
審査官引用 (2件)

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