特許

J-GLOBAL ID：200903012715244474

液体気化装置

発明者： 板藤 寛
出願人/特許権者： シーケーディ株式会社
代理人 (1件)： 富澤 孝 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-008364
公開番号（公開出願番号）：特開平11-200051
出願日： 1998年01月20日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：

【要約】【課題】 液体ソースを気化させる構成を簡易なものとして装置自体を安価なものとし、またバッチ処理によって液体ソースを気化させる際の繰り返し精度を向上させた液体気化装置を提供すること。【解決手段】 本発明の流体気化装置は、垂直に立設され、上端が気化した液体ソースを利用する処理装置側に接続され、下端が供給された液体ソースを充填する圧送タンクに接続された管部材1と、管部材1の上部に少なくとも2系統に設けられたヒータ6,7と、圧送タンク3内に充填された液体ソースを管部材1へ所定量供給する該圧送タンク3内に設けられた定量ポンプ2と、圧送タンク3内へ液体ソースを供給する液体ソース供給手段21,23,25...と、ヒータ6,7、定量ポンプ2、及び液体ソース供給手段の動作を制御する制御手段とを有する。

請求項（抜粋）：

垂直に立設され、上端が気化した液体ソースを利用する処理装置側に接続され、下端が供給された液体ソースを充填する圧送タンクに接続された管部材と、前記管部材の上部に少なくとも2系統に設けられたヒータと、前記圧送タンク内に充填された液体ソースを前記管部材へ所定量供給する当該圧送タンク内に設けられた定量ポンプと、前記圧送タンク内へ液体ソースを供給する液体ソース供給手段と、前記ヒータ、定量ポンプ、及び液体ソース供給手段の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする液体気化装置。

IPC (7件)：

C23C 16/44 ,  B01D 1/00 ,  B01J 7/02 ,  B05D 3/10 ,  B05D 5/12 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/31

FI (7件)：

C23C 16/44 C ,  B01D 1/00 Z ,  B01J 7/02 Z ,  B05D 3/10 E ,  B05D 5/12 D ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/31 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 化学気相成長装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-266247   出願人：三菱電機株式会社