走査型露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-267903
公開番号（公開出願番号）：特開平8-130178
出願日： 1994年11月01日
公開日（公表日）： 1996年05月21日
要約：

【要約】【目的】大面積を転写可能であり、スループットの低下を招くことなく、マスクの良好な像を基板上に転写すること。【構成】マスク(M) と基板(P) とを走査方向(Y方向)に沿って移動させつつマスク(M) 上のパターンを基板(P) 上に投影する走査型露光装置は、マスク(M) 上にて第1の視野(10a) を有し、第1の視野(10a) 内のマスクの等倍の倒立像を基板(P) 上に形成する第1の投影光学系 (1a〜4a) と、マスク(M) 上にて第1の視野(10a) とは異なる第2の視野(10b) を有し、第2の視野(10b) 内のマスクの等倍の倒立像を基板(P) 上に形成する第2の投影光学系 (1b〜4b) とを有する。そして、第1及び第2の投影光学系 (1a〜4a, 1b〜4b) は、少なくとも像側テレセントリック光学系である。

請求項（抜粋）：

マスクと基板とを走査方向に沿って移動させつつ前記マスク上のパターンを前記基板上に投影する走査型露光装置において、前記マスク上にて第1の視野を有し、該第1の視野内の前記マスクの等倍の倒立像を前記基板上に形成する第1の投影光学系と、前記マスク上にて前記第1の視野とは異なる第2の視野を有し、該第2の視野内の前記マスクの等倍の倒立像を前記基板上に形成する第2の投影光学系とを有し、前記第1及び第2の投影光学系は、少なくとも像側テレセントリック光学系であることを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 518 , H01L 21/30 515 D

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