結晶欠陥の検査方法及び検査装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井内龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-146983
公開番号（公開出願番号）：特開2000-338047
出願日： 1999年05月26日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：

【要約】【課題】ウェーハの品質評価を正確かつ迅速に行うことができる結晶欠陥の検査方法及び検査装置を提供すること。【解決手段】ウェーハ表面近傍に存在する結晶欠陥の検査において、ウェーハ表面に選択性の高いエッチング処理を施した後、洗浄する工程、前記ウェーハをXYステ-ジに載置して顕微鏡を用いた撮影を行い、該撮影画像を保存する工程、該撮影画像の輝度のヒストグラムに基づいて結晶欠陥の有無を判定する工程、撮影画像の全輝度値の平均及び標準偏差の値から検査視野内における結晶欠陥以外の汚れ等の有無を判定する工程、結晶欠陥の個数を計数する工程、を含ませる。

請求項（抜粋）：

ウェーハ表面に結晶欠陥に対して選択性の高いエッチング処理を施した後、洗浄する工程、前記ウェーハをXYステ-ジに載置して顕微鏡を用いた撮影を行い、該撮影画像を保存する工程、該撮影画像の輝度のヒストグラムに基づいて結晶欠陥の有無を判定する工程、撮影画像の全輝度値の平均及び/又は標準偏差の値から検査視野内における結晶欠陥以外の汚れ等の有無を判定する工程、結晶欠陥の個数を計数する工程、を含むことを特徴とする結晶欠陥の検査方法。

IPC (2件)：

G01N 21/88 , H01L 21/66

FI (2件)：

G01N 21/88 645 A , H01L 21/66 N

Fターム (23件)：

2G051AA51 , 2G051AB01 , 2G051AB06 , 2G051AB07 , 2G051AC11 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CC20 , 2G051DA07 , 2G051EA11 , 2G051EC02 , 2G051ED05 , 4M106AA01 , 4M106AA10 , 4M106BA12 , 4M106CB19 , 4M106DH12 , 4M106DH50 , 4M106DH55 , 4M106DJ04 , 4M106DJ11 , 4M106DJ14 , 4M106DJ21

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開平4-313253
特開昭62-276441

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