特許
J-GLOBAL ID:200903012774698993
フルオロベンゼン誘導体およびこれを含む液晶組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
川北 武長
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-220085
公開番号(公開出願番号):特開平5-058927
出願日: 1991年08月30日
公開日(公表日): 1993年03月09日
要約:
【要約】【目的】STN用ネマチック液晶組成物を構成する際ベンドとスプレーの弾性定数比(K33/K11)の値を大きく保持したままNーI点を調製できる化合物を提供する。【構成】一般式【化15】(ここでR1 、R2 は炭素数1〜10のアルキル基、nは0または1、Aはトランスー1,4ーシクロヘキシレンまたは1,4ーフェニレンを示す)で表されるフルオロベンゼン誘導体化合物。【効果】一般に3環系化合物は弾性定数比が大きくSTN組成物向きであるがNーI点が高く、これを適切なNーI点に調製するため2環系化合物が使われてきたが、弾性定数比を大きく保持するのが難しかった。本発明の化合物は、弾性定数比が大きくかつNーI点が比較的低いため、STN用組成物を構成する際NーI点を調製するのに有効である。
請求項(抜粋):
一般式【化1】(ここで、R1 、R2 は炭素数1〜10のアルキル基、nは0または1、Aはトランスー1,4ーシクロヘキシレンまたは1,4ーフェニレンを示す)で表されるフルオロベンゼン誘導体。
IPC (3件):
C07C 25/13
, C09K 19/30
, C09K 19/42
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