特許

J-GLOBAL ID：200903012786186483

液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および含フッ素共重合体

発明者： 古谷 早苗 ,  太宰 尚宏 ,  森 貴敬 ,  塩野 大寿 ,  平野 智之
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-013024
公開番号（公開出願番号）：特開2009-175363
出願日： 2008年01月23日
公開日（公表日）： 2009年08月06日
要約：

【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素共重合体、それを含有する液浸露光用レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、下記一般式(c1-1)で表される構成単位を有する含フッ素共重合体(C)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、下記一般式(c1-1)で表される構成単位(c1)を有する含フッ素共重合体(C)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 8/24 ,  C08F 8/12 ,  C08F 212/14 ,  C08F 220/24

FI (7件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F8/24 ,  C08F8/12 ,  C08F212/14 ,  C08F220/24

Fターム (27件)：

2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03H ,  4J100BA03P ,  4J100BA20H ,  4J100BA20P ,  4J100BB18H ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100HA08 ,  4J100HA11 ,  4J100HA27 ,  4J100HC63 ,  4J100JA38