特許
J-GLOBAL ID：200903012796188050
スチレン系重合体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-237291
公開番号（公開出願番号）：特開平6-087910
出願日： 1992年09月04日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：
【要約】【構成】一般式 CpA1 A2 A3nM(ここで、Cpはシクロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基またはそれらの誘導体を示す。A1 ,A2 ,A3 はハロゲン原子、水素原子、炭素数1〜10までのアルキル基、アルコキシ基、炭素数6〜20までのアリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基またはアミド基であり、A1 ,A2 ,A3 のうち少なくとも一つはアミド基である。また、A1 ,A2 ,A3 は互いに同じであっても異なっていてもよい。nは1〜3までの整数。Mは周期律表4〜6族の遷移金属を示す。)で表される遷移金属化合物、および助触媒からなる触媒の存在下にスチレンおよび/またはスチレン誘導体を重合することを特徴とするスチレン系重合体の製造方法。【効果】効率よくシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を製造することができる。
請求項（抜粋）：
一般式 CpA1 A2 A3 n M(ここで、Cpはシクロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基またはそれらの誘導体を示す。A1 ,A2 ,A3 はハロゲン原子、水素原子、炭素数1〜10までのアルキル基、アルコキシ基、炭素数6〜20までのアリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基またはアミド基であり、A1 ,A2 ,A3 のうち少なくとも一つはアミド基である。また、A1 ,A2 ,A3 は互いに同じであっても異なっていてもよい。nは1〜3までの整数。Mは周期律表4〜6族の遷移金属を示す。)で表される遷移金属化合物、および助触媒からなる触媒の存在下にスチレンおよび/またはスチレン誘導体を重合することを特徴とするスチレン系重合体の製造方法。
IPC (2件)：
C08F 4/622 MFH
, C08F 12/08
