特許

J-GLOBAL ID：200903012797379402

直接描画方法及び直接描画装置

発明者： 奥 津 浩 一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-031728
公開番号（公開出願番号）：特開2000-229260
出願日： 1999年02月09日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】 ズーム機構を不要とし、装置の簡単化を図ること。【解決手段】 走査制御部9は、レーザ照射部6をX,Y方向に移動させるが、このとき、走査制御部9の走査速度制御手段10は、予め設定されたパターン情報に基づき、レーザ照射部6の移動速度すなわちレーザ照射口7からのレーザ光8の走査速度を可変する。これにより、UVインク2の硬化部の硬化幅を可変することができ、したがって、従来のようなズーム機構を用いることなく解像度(DPI)及び諧調(LPI)の調整を行うことができる。

請求項（抜粋）：

描画対象物の表面に塗布された光硬化性樹脂に対して、所定のパターン情報に基づき走査されるレーザ光を照射し、その後の洗浄作業でレーザ光の照射による硬化部分を残して前記光硬化性樹脂の未硬化部分を除去することにより、前記描画対象物の表面に所望の模様を描く直接描画方法において、前記レーザ光の走査速度を可変することにより、前記硬化部分の硬化幅を可変する、ことを特徴とする直接描画方法。

IPC (4件)：

B05C 9/12 ,  B05D 3/00 ,  B23K 26/00 ,  B44C 1/22

FI (4件)：

B05C 9/12 ,  B05D 3/00 D ,  B23K 26/00 A ,  B44C 1/22 B

Fターム (22件)：

4D075BB20Z ,  4D075BB48Y ,  4D075BB95Y ,  4D075BB99Y ,  4D075CA48 ,  4D075CB11 ,  4D075DA06 ,  4D075DB02 ,  4D075DC16 ,  4D075DC19 ,  4D075EA21 ,  4E068AB00 ,  4E068CA15 ,  4E068CB05 ,  4E068CD11 ,  4E068CE02 ,  4E068DA00 ,  4F042AA13 ,  4F042BA04 ,  4F042BA10 ,  4F042CC09 ,  4F042DB52