特許

J-GLOBAL ID：200903012804725958

光学膜の製造方法

発明者： 生水 利明 ,  池田 浩 ,  川俣 健 ,  三田村 宣明 ,  徳田 一成 ,  秋元 文二 ,  新田 佳樹 ,  豊原 延好
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-345114
公開番号（公開出願番号）：特開平7-180048
出願日： 1993年12月21日
公開日（公表日）： 1995年07月18日
要約：

【要約】【目的】 吸収のない低屈折率の光学膜をスパッタリング法で得る。【構成】 成膜用のターゲットとしてアルミニウムまたはマグネシウムを使用し、プロセスガスとして塩素を含むガス,フッ素を含むガスおよび不活性ガスを同時に成膜室に導入し、スパッタリング法により成膜を行う。

請求項（抜粋）：

アルミニウムまたはマグネシウムをターゲット材料として用い、塩素を含むガス,フッ素を含むガスおよび不活性ガスをプロセスガスとして用いてスパッタリングし、AlF3 またはMgF2 を成膜することを特徴とする光学膜の製造方法。

IPC (2件)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/06