化学蒸着反応器

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：社本一夫 , 増井忠弐 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-549589
公開番号（公開出願番号）：特表2005-511895
出願日： 2002年12月04日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：

【解決手段】反応器室(950)と、反応器室内に配置されている基板保持器(46)と、基板保持器上に回転する気体流れを作り出すように配列されている気体導入システム(922)と、気体排気口(930)と、を備えている化学蒸着(CVD)反応器(900)。先駆物質の気体の流れの特性は、気体が基板上を移動する際に気体をより小さな容積内に押し込むことによって、基板表面に亘って薄膜の厚さが等しくなるように制御される。中央排気式になっているので、この特性は、反応器室の高さ(1506,1524)を、反応器室の中心(1508)に近づくにつれて低くし、気体が入口から排気口へ移動するにつれて、単位距離当たりの反応器の容積を減少させることによって作り出されている。

請求項（抜粋）：

化学蒸着法において、基板面を画定する基板保持器(46、48)を含む反応器室(950)を提供する段階と、前駆物質の気体を、前記反応器室を通して、気体入口(942)から排気口(930)の方向(R)へ、前記基板面に実質的に垂直な軸(1508)回りの円形運動として、且つ前記前駆物質の気体が前記方向に移動する際に前記前駆物質の気体が使用できる単位距離当たりの反応器容積を減少させながら、移動させる段階と、前記蒸気を反応させて、前記基板の表面上に固体薄膜を蒸着させる段階と、から成る方法。

IPC (2件)：

C23C16/455 , H01L21/31

FI (2件)：

C23C16/455 , H01L21/31 B

Fターム (20件)：

4K030EA03 , 4K030EA06 , 4K030EA08 , 4K030EA11 , 4K030JA04 , 4K030JA05 , 4K030JA07 , 4K030JA10 , 4K030KA05 , 5F045AA03 , 5F045AB31 , 5F045AC07 , 5F045AD07 , 5F045AE21 , 5F045AE23 , 5F045AF01 , 5F045BB16 , 5F045DP04 , 5F045DQ10 , 5F045EC01

引用特許：

出願人引用 (2件)

米国特許第6,056,994号
米国特許第5,614,252号

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