特許
J-GLOBAL ID：200903012837823343
フツ化物光フアイバ用プリフオーム製造方法及び製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-181345
公開番号（公開出願番号）：特開平5-024875
出願日： 1991年07月22日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：
【要約】【目的】 CVD法を用いた低損失のフッ化物光ファイバ用プリフォーム製造方法を提供する。【構成】 揮発性原料と含フッ素ガスを反応容器内で気相で反応させることによりフッ化物光ファイバ用プリフォームを作製する方法において、含フッ素ガスのみを活性化し、活性化した含フッ素ガスと揮発性原料を反応させることによりフッ化物ガラスプリフォームを製造することを特徴とするフッ化物光ファイバ用プリフォーム製造方法。【効果】 従来のPCVD法に比べ不純物の少ない均質なフッ化物ガラスを容易に作製することができる他、基体として用いるフッ化物ガラス管の加熱による変形、結晶化、さらにプラズマ照射による欠陥の生成を防ぐことができ、低損失のフッ化物光ファイバの作製が可能となる。
請求項（抜粋）：
揮発性原料と含フッ素ガスを反応容器内で気相で反応させることによりフッ化物光ファイバ用プリフォームを作製する方法において、含フッ素ガスのみを活性化し、活性化した該含フッ素ガスと揮発性原料を反応させることによりフッ化物ガラスプリフォームを製造することを特徴とするフッ化物光ファイバ用プリフォーム製造方法。
IPC (4件)：
C03B 37/018
, C03B 8/04
, C03C 3/32
, G02B 6/00 356
