フォトマスク装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：白井博樹 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-167018
公開番号（公開出願番号）：特開平11-015143
出願日： 1997年06月24日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】簡単な構成で大型基板に対応する。【解決手段】プロキシミティ露光に用いられるフォトマスク装置において、フォトマスクフォルダー3に複数の開口部2を形成し、これら開口部に複数のフォトマス4を装着した構成。

請求項（抜粋）：

プロキシミティ露光に用いられるフォトマスク装置において、フォトマスクフォルダーに複数の開口部を形成し、これら開口部に複数のフォトマスを装着したことを特徴とするフォトマスク装置。

IPC (3件)：

G03F 1/14 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/14 M , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 509

引用特許：

出願人引用 (3件)

審査官引用 (6件)

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