液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-297945
公開番号（公開出願番号）：特開2006-113140
出願日： 2004年10月12日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：

【課題】レジストパターン形状が良好で、微細なレジストパターンを形成できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含む液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分(A)が、水素原子を有するアルカリ可溶性基(i)を有し、かつ該アルカリ可溶性基(i)の一部において、その水素原子が下記一般式(I)[上記式中、Zは脂肪族環式基を表し;nは0または1〜3の整数を表し;R1、R2はそれぞれ独立して水素原子または炭素数1〜5の低級アルキル基を表す。]で表される酸解離性溶解抑制基(I)で置換されている樹脂(A1)を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含む液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、水素原子を有するアルカリ可溶性基(i)を有し、かつ該アルカリ可溶性基(i)の一部において、その水素原子が下記一般式(I)

IPC (3件)：

G03F 7/039 , C08F 20/10 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , C08F20/10 , H01L21/30 502R

Fターム (29件)：

2H025AA03 , 2H025AC01 , 2H025AC03 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA02P , 4J100BA04P , 4J100BA05Q , 4J100BA06Q , 4J100BA11Q , 4J100BA15P , 4J100BC04P , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC12P , 4J100BC53Q , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-320105 出願人：富士通株式会社

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