特許

J-GLOBAL ID：200903012874935801

ハロゲン含有ガス処理方法及び処理装置

発明者： 葛本 昌樹 ,  和田 昇 ,  土井 雅史
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 宮田 金雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-350855
公開番号（公開出願番号）：特開2002-153729
出願日： 2000年11月17日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：

【要約】【課題】 ハロゲン化合物含有ガス中のハロゲン濃度によらずにハロゲン化合物を高効率に分解処理できるハロゲン含有ガスの処理方法及び処理装置を得る。【解決手段】 ハロゲン化合物含有ガスに、このガス中のハロゲン濃度に基づく所定量の水蒸気を混合し、この混合ガスを放電処理部31へ導入して混合ガス中のハロゲン化合物を分解し、この分解生成物を除去する。

請求項（抜粋）：

ハロゲン化合物含有ガスに、このガス中のハロゲン濃度に基づく所定量の水蒸気を混合し、この混合ガスを放電処理部へ導入して、上記混合ガス中のハロゲン化合物を分解し、この分解生成物を除去することからなるハロゲン含有ガス処理方法。

IPC (5件)：

B01D 53/70 ,  B01D 53/18 ,  B01D 53/32 ZAB ,  B01D 53/68 ,  B01J 19/08

FI (5件)：

B01D 53/18 A ,  B01D 53/32 ZAB ,  B01J 19/08 C ,  B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/34 134 C

Fターム (54件)：

4D002AA21 ,  4D002AA22 ,  4D002AA24 ,  4D002AC10 ,  4D002BA07 ,  4D002CA01 ,  4D002CA06 ,  4D002CA13 ,  4D002DA05 ,  4D002DA12 ,  4D002DA35 ,  4D002EA02 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB08 ,  4D002GB11 ,  4D002GB20 ,  4D020AA10 ,  4D020BA23 ,  4D020BB03 ,  4D020CB01 ,  4D020CD10 ,  4D020DA03 ,  4D020DB03 ,  4D020DB20 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075AA42 ,  4G075AA51 ,  4G075AA52 ,  4G075AA53 ,  4G075AA63 ,  4G075BA01 ,  4G075BA05 ,  4G075BB01 ,  4G075BB06 ,  4G075BD05 ,  4G075BD12 ,  4G075BD22 ,  4G075BD27 ,  4G075CA02 ,  4G075CA15 ,  4G075CA57 ,  4G075CA63 ,  4G075DA01 ,  4G075DA13 ,  4G075EA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EC01 ,  4G075EC21

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 有機ハロゲン化合物の処理方法および処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-015035   出願人：株式会社タクマ
• ハロゲン系ガスの処理方法、処理装置および反応処理装置並びに半導体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-326511   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 排気装置及び排気方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-171766   出願人：富士通株式会社
• 特開昭63-291624