特許

J-GLOBAL ID：200903012880855429

ポジ型レジスト組成物及びその製造方法

発明者： 漢那 慎一 ,  水谷 一良 ,  佐々木 知也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-085830
公開番号（公開出願番号）：特開2004-294688
出願日： 2003年03月26日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】現像液濃度依存性やサイドローブ光耐性(サイドローブマージン)に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A-1)ポリマー骨格の主鎖にフッ素原子を有する樹脂、(A-2)ポリマー骨格の側鎖にフッ素原子を有する特定の構造をもつ繰り返し単位を含む樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する化学増幅型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A-1)ポリマー骨格の主鎖にフッ素原子を有する樹脂、 (A-2)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とする、ポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/039 ,  C08F32/00 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  C08F32/00 ,  H01L21/30 502R

Fターム (25件)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB15 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AR09P ,  4J100AR11P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BB18P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38