光学系をデブリ粒子から保護するガスカーテンを具えた放電源

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉村興作
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-529823
公開番号（公開出願番号）：特表2005-503657
出願日： 2002年07月29日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：

ガスカーテン装置を用いて、放電プラズマソースのような極紫外線及び軟X線放射放電ソースにより発生されるデブリを偏向させる。ガスカーテン装置はガス流を放射のパスを横切って噴射してデブリ粒子を放射パスの方向から異なる方向へ偏向させる。ガスカーテンはフォトリソグラフィに使用される光学系上へのデブリの堆積を阻止する。

請求項（抜粋）：

極紫外及び軟X線放射を発生する装置であって、パスに沿って放射ビームを発生するとともにデブリを発生するEUV源と、ガス流を前記放射パスを横切って噴射してデブリを前記放射パスの方向から異なる方向へ偏向させるガスカーテン手段とを具えることを特徴とする極紫外及び軟X線放射を発生する装置。

IPC (4件)：

H05G2/00 , G21K1/00 , G21K5/08 , H05H1/24

FI (4件)：

H05G1/00 K , G21K1/00 X , G21K5/08 X , H05H1/24

Fターム (4件)：

4C092AA07 , 4C092AA14 , 4C092AB30 , 4C092AC09

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭61-179046
特許第6232613号
特開昭63-292553

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