特許

J-GLOBAL ID：200903012885509472

膜厚分布計測方法及びその装置

発明者： 斉藤 啓谷 ,  野本 峰生 ,  廣瀬 丈師
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-166460
公開番号（公開出願番号）：特開2004-012302
出願日： 2002年06月07日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】CMP加工後、膜厚を計測し面内膜厚分布を求める際、試料上の測定個所及び、特定パターンの位置決めすることなしに高速に膜厚分布を求める。【解決手段】CMP加工後、膜厚を計測する際、試料を移動し、移動中の試料からの反射光の分光波形を連続的に検出することにより、短時間で比較的詳細な試料面内の膜厚分布を求める。又、ウェハにおけるチップのように試料上の局所的領域でパターンの密度等による膜厚分布が生じる場合、区分領域毎に分光波形を連続的に検出し、その区分領域を代表する膜厚値を求め、区分領域の膜厚を基に試料全面の膜厚分布を求める。得られた膜厚分布を基に次の試料のCMP加工条件を設定することにより、CMP加工の膜厚の均一性を図れる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

試料表面に形成された光学的に透明な膜の膜厚分布を求める方法において、試料表面に白色光を照射し、前記試料を移動させ、移動する前記試料からの反射光の分光波形を連続的に検出して、検出した前記反射光の分光波形に基づいて、前記試料の膜厚分布を求めることを特徴とする膜厚分布計測方法。

IPC (5件)：

G01B11/06 ,  B24B37/04 ,  B24B49/12 ,  H01L21/304 ,  H01L21/66

FI (5件)：

G01B11/06 Z ,  B24B37/04 D ,  B24B49/12 ,  H01L21/304 622S ,  H01L21/66 P

Fターム (44件)：

2F065AA30 ,  2F065BB02 ,  2F065BB25 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065FF41 ,  2F065FF46 ,  2F065GG02 ,  2F065GG03 ,  2F065GG24 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ15 ,  2F065LL00 ,  2F065LL22 ,  2F065LL30 ,  2F065LL67 ,  2F065MM04 ,  2F065MM07 ,  2F065PP02 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ42 ,  3C034AA19 ,  3C034BB93 ,  3C034CA01 ,  3C034CB01 ,  3C034DD10 ,  3C058AC02 ,  3C058BA01 ,  3C058BA07 ,  3C058BA14 ,  3C058BB06 ,  3C058BC02 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA13 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA48 ,  4M106DH03 ,  4M106DH12 ,  4M106DH31