特許

J-GLOBAL ID：200903012893608676

縦型半導体拡散炉

発明者： 松本 一秀
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-000882
公開番号（公開出願番号）：特開平6-204155
出願日： 1993年01月07日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：

【要約】【目的】半導体ウェーハを加熱処理した後の冷却時間を短縮する。【構成】炉体2の下面に環状の支持台1を設ける。均熱管4の外側には、均熱管4と比べて直径の大きい均熱管14を設ける。支持台1には、複数の供給管10と排出管11を交互に放射状に設ける。供給管10から冷却ガスを均熱管4と均熱管14の間に供給する。この供給された冷却ガスは、炉体1の内面に取り付けられた発熱導体3と均熱管14の間から排出管11によって排出する。

請求項（抜粋）：

内周に発熱体が設けられた筒状の炉体に均熱管と反応管が挿着された縦型半導体拡散炉において、前記均熱管を内側均熱管と外側均熱管で構成し、この内側均熱管と外側均熱管の間から前記炉体の内周に冷却用ガスを供給する手段と、前記炉体の内周から前記冷却用ガスを排出する手段を付加したことを特徴とする縦型半導体拡散炉。