特許
J-GLOBAL ID：200903012903840700
気相成長装置反応容器のクリーニング方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 英俊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-272589
公開番号（公開出願番号）：特開平6-124894
出願日： 1992年10月12日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：
【要約】【目的】 反応容器内面のクリーニングを効率よく行うことができる気相成長装置反応容器のクリーニング方法を提供する。【構成】 クリーニング容器1内に気相成長装置の反応容器18を置き、クリーニング容器1内にクリーニングガス供給口2よりクリーニングガスを供給し、クリーニング容器1内の圧力をプラズマ発生を行える圧力になるように制御する。この状態で、プラズマ用電極4a,4b間に高周波電源5から高周波電圧を印加し、クリーニング容器1内にプラズマを発生させる。このプラズマによりクリーニングガスをイオンやラジカルとし、反応容器18内面の汚れと化学反応を起こさせ、別種のガスとしてクリーニングを行う。
請求項（抜粋）：
クリーニング容器内に気相成長装置の反応容器を置き、前記クリーニング容器内で該反応容器を化学活性種を含むガスを用いてドライクリーニングすることを特徴とする気相成長装置反応容器のクリーニング方法。
引用特許：
前のページに戻る
