遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-173379
公開番号（公開出願番号）：特開2000-010285
出願日： 1998年06月19日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】遠紫外光、特にArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することで、短波長光源に対して、感度が優れ、更にパターンプロファイルが優れ、クラッキングの発生が防止できる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の脂環式構造を有する化合物を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び下記一般式(I)で示される化合物を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(I)中、R1 は、2価〜6価の連結基を表す。R2 〜R4 は、同じでも異なってもよく、置換基を有していてもよい炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、-COOR0 、-COOR5 、-NH-C(=O)-R5 、又は-NH-SO2 -R5 を表す。R5 は、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。R0 は、-COOR0 で酸の作用により分解する基(酸分解性基)を構成する基を表す。R6 〜R9 は、同じでも異なってもよく、水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、-COOR0 、-COOR5 、又は-CO-X-A-R10を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHSO2 -、又は-NHSO2 NH-を表す。Aは、単結合もしくは2価の有機連結基を表す。R10は、置換基を有していてもよい炭化水素基、ラクトン基、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、又はシアノ基を表す。aは、2〜6の整数を表す。lは、0〜6の整数を表し、mは0〜4の整数を表し、nは、0〜6の整数を表す。一般式(I)で示される化合物には、R1 以外の部分に少なくとも1つの酸分解性基を有する。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (10件)：

2H025AA01 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025BJ01 , 2H025CB51 , 2H025CB52

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