特許
J-GLOBAL ID：200903012928051033
パターン認識方法およびその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-175045
公開番号（公開出願番号）：特開平5-020459
出願日： 1991年07月16日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 1次認識で選ばれた類似基準パターンについてのみ、2次認識で所定の方法による比較照合および最終チェックを行うことにより、検出精度の低下を来すことなく、処理時間を短縮する。【構成】対象パターンと予め記憶された基準パターンについて処理ステップ#55で2値化された画像の特徴パラメータどうしを比較する1次認識処理ステップ#56を行った後、上記対象パターンを1次認識処理で互いの特徴パラメータが所定値以上一致した基準パターンとのみ比較照合するステップ#58以降の2次認識処理を行う。
請求項（抜粋）：
2値化された対象画像自身に基づく部分パターン信号の組み合わせから対象パターンを認識するパターン認識方法において、上記対象パターンの特徴パラメータと予め記憶された基準パターンの特徴パラメータとを比較する1次認識処理を行った後、上記対象パターンを1次認識処理で互いの特徴パラメータが所定値以上一致した基準パターンとのみ比較照合する2次認識処理を行うことを特徴とするパターン認識方法。
IPC (2件)：
G06F 15/70 450
, G01B 11/24
