露光装置及びデバイス製造装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-324901
公開番号（公開出願番号）：特開平11-219902
出願日： 1998年11月16日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】露光光の光路の少なくとも一部に高透過率(不活性)で熱伝導率が良好な気体を供給する場合に、その気体の使用量を抑制する。【解決手段】床F1上の環境チャンバ7内に露光本体部26が設置され、外部のF2 レーザ光源3を収納するカバー1から環境チャンバ7の内側までの照明光学系の大部分がサブチャンバ6で覆われている。階下の床F2上の所定のボンベ内の高純度のヘリウムガスを配管31を介してサブチャンバ6、及び露光本体部26の投影光学系PL内に供給し、環境チャンバ7の天井近傍に集まるヘリウムガスと、主に窒素よりなる空気の成分との混合気体を配管33を介して階下の集塵排水装置35に導き、集塵排水装置35を通過した混合気体を冷凍装置37に通して液化した空気の成分を所定のボンベに回収し、気体のままのヘリウムを配管41、混合温調装置、及び配管31を介して再循環させる。

請求項（抜粋）：

転写用のパターンが形成されたマスクに露光エネルギービームを照射する照明系と、前記マスクのパターンが転写される基板を位置決めするステージ系と、を有する露光装置において、前記露光エネルギービームの光路の少なくとも一部に、前記露光エネルギービームに対する透過率が高く、かつ熱伝導率の良好な気体を供給する気体供給装置と、前記気体供給装置から前記露光エネルギービームの光路上に供給された後に前記気体の少なくとも一部を回収する気体回収装置と、を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 F , G03F 7/20 521

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