特許
J-GLOBAL ID:200903012940265790
記憶媒体基板、それからなる記憶媒体および記憶媒体の製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-140432
公開番号(公開出願番号):特開2002-331594
出願日: 2001年05月10日
公開日(公表日): 2002年11月19日
要約:
【要約】【課題】 優れた耐熱性、表面平滑性、剛性および平面性を有する記憶媒体基板、それからなる記憶媒体およびその製造方法の提供。【解決手段】 ポリフェニレンスルフィド樹脂組成物からなる基板であって、220°C以上280°C以下の温度でアニール処理が施された記憶媒体基板。
請求項(抜粋):
ポリフェニレンスルフィド樹脂組成物からなる基板であって、220°C以上280°C以下の温度でアニール処理が施されていることを特徴とする記憶媒体基板。
IPC (11件):
B29C 71/00
, B29C 45/72
, C08J 5/18 CEZ
, C08K 3/00
, C08L 81/02
, G11B 5/73
, B29K 81:00
, B29K 83:00
, B29K105:16
, B29L 7:00
, B29L 31:36
FI (11件):
B29C 71/00
, B29C 45/72
, C08J 5/18 CEZ
, C08K 3/00
, C08L 81/02
, G11B 5/73
, B29K 81:00
, B29K 83:00
, B29K105:16
, B29L 7:00
, B29L 31:36
Fターム (44件):
4F071AA62
, 4F071AB18
, 4F071AB21
, 4F071AB24
, 4F071AB26
, 4F071AH14
, 4F071BB05
, 4F071BC01
, 4F201AA11
, 4F201AA34
, 4F201AB16
, 4F201AB25
, 4F201AG01
, 4F201AH38
, 4F201BA07
, 4F201BC01
, 4F201BC02
, 4F201BC15
, 4F201BC37
, 4F201BD04
, 4F201BR02
, 4F201BR08
, 4F206AA34
, 4F206AH38
, 4F206AH79
, 4F206JA07
, 4J002CN011
, 4J002DA016
, 4J002DE106
, 4J002DE146
, 4J002DE186
, 4J002DE236
, 4J002DG046
, 4J002DG056
, 4J002DJ006
, 4J002DJ026
, 4J002DK006
, 4J002DL006
, 4J002FA046
, 4J002FD016
, 4J002GS02
, 5D006CB01
, 5D006CB05
, 5D006CB07
前のページに戻る