特許
J-GLOBAL ID：200903012940301142
フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-278902
公開番号（公開出願番号）：特開平9-034112
出願日： 1995年10月26日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：
【要約】【課題】 耐熱性、残膜率、塗布性、プロファイルなどに優れるとともに、感度及び解像度にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 ポジ型フォトレジスト組成物のアルカリ可溶性樹脂として、部分アルキルエーテル化ポリビニルフェノール又はその部分水添物のフェノール性水酸基を部分的に保護したポリビニルフェノール系樹脂を用い、酸発生剤として、N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルを用いる。アルカリ可溶性樹脂としては、部分アルキルエーテル化ポリビニルフェノールのフェノール性水酸基を部分的に保護したポリビニルフェノール系樹脂であって、分散度の小さいものが一層効果的である。【効果】 この組成物は耐熱性や塗布性に優れ、また遠紫外線光源、電子線、X線、放射光などによる露光領域において、感度、解像度、プロファイル、残膜率などに優れたポジ型パターンを与える。
請求項（抜粋）：
部分アルキルエーテル化ポリビニルフェノール又はその部分水添物のフェノール性水酸基を部分的に保護したポリビニルフェノール系樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂、及び酸発生剤としてのN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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