洗浄機能付き荷電ビーム装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-059763
公開番号（公開出願番号）：特開平9-251968
出願日： 1996年03月15日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】鏡筒内に付着する複数種の汚染物を除去する。【解決手段】鏡筒1と、この鏡筒内に設置され電子ビームを生成する電子ビーム発生部2と、前記鏡筒1の内部に収納され前記荷電ビームを偏向させる光学系3,4と、前記鏡筒に隣接し、前記光学系3,4によって偏向された前記電子ビームが照射される試料を収容する試料室6と、第1のアパーチャ3aの上部に設置され、プラズマ化されたCF4 とO2 との混合ガスを導入する第1のガス導入口12と、第1のアパーチャ3aと静電偏向用電極4との間に設置され、プラズマ化されたO2 ガスを鏡筒内に導入する第2のガス導入口15とを具備する。

請求項（抜粋）：

鏡筒と、この鏡筒内に設置され荷電ビームを生成する荷電ビーム発生部と、前記鏡筒の内部に収納され前記荷電ビームを偏向させる光学系と、前記鏡筒に接続され、前記光学系によって偏向された前記荷電ビームが照射される試料を収容する試料室と、混合比あるいは種類が異なる複数の洗浄用ガスをプラズマ化あるいは活性化して前記鏡筒内に導入する手段と、前記鏡筒内のガスを排気する手段とを具備することを特徴とする洗浄機能付き荷電ビーム装置。

IPC (2件)：

H01L 21/302 , H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/302 Z , H01L 21/30 503 G , H01L 21/30 541 Z , H01L 21/30 541 B

引用特許：

出願人引用 (7件)

荷電ビーム照射装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-124406 出願人：株式会社東芝
特開平4-214873
真空処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-225468 出願人：株式会社日立製作所

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