特許
J-GLOBAL ID：200903012958916640
静電チャック、これを用いたプラズマ処理装置及びこの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
浅井 章弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-155168
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335732
出願日： 1994年06月14日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：
【要約】【目的】 ポリイミド樹脂とセラミックの両長所を兼ね備えるようにして耐久性のある安価な静電チャックを提供する。【構成】 プラズマ処理室28内の載置台32に被処理体Wを吸着保持するために設けられた、樹脂フィルム42,44により絶縁された導電膜40よりなる静電チャック38において、前記樹脂フィルムの被処理体載置面にセラミックコーティング膜50を形成する。これにより、残留吸着力の作用する時間を抑制しつつ表面の機械的強度を向上させる。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理室内の載置台に被処理体を吸着保持するために設けられた、樹脂フィルムにより絶縁された導電膜よりなる静電チャックにおいて、前記樹脂フィルムの被処理体載置面にセラミックコーティング膜を形成するように構成したことを特徴とする静電チャック。
IPC (2件)：
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