特許
J-GLOBAL ID：200903012960363314
処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-192876
公開番号（公開出願番号）：特開平6-013361
出願日： 1992年06月26日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：
【要約】【目的】 装置外に処理ガスが漏洩するのを低減できる処理装置を提供するものである。【構成】 本発明は所定ガス雰囲気で満たされた予備室40と、この予備室40の上方に設けられた処理ガス雰囲気室14と、上記予備室40内に設けられた昇降機構を具備する被処理体載置用の載置台19と、この載置台19の上昇時に上記予備室40と上記処理ガス雰囲気室14の間に構成される中間室29と、上記処理ガス雰囲気室14と上記中間室29間を開閉する開閉機構を具備した蓋体6とで構成されたものである。
請求項（抜粋）：
所定ガス雰囲気で満たされた予備室と、この予備室の上方に設けられた処理ガス雰囲気室と、上記予備室内に設けられた昇降機構を具備する被処理体載置用の載置台と、この載置台の上昇時に上記予備室と上記処理ガス雰囲気室の間に構成される中間室と、上記処理ガス雰囲気室と上記中間室間を開閉する開閉機構を具備した蓋体とで構成されたことを特徴とする処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, B08B 5/00
