特許
J-GLOBAL ID：200903012968947870
薄膜磁気ディスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-014492
公開番号（公開出願番号）：特開平6-231442
出願日： 1993年02月01日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：
【要約】【目的】プレーン基板にテクスチャ加工を行わないで、円周方向に表面処理することで磁気異方性を付けること。【構成】成膜工程(g)の前の表面処理工程(e)でNi-P基板8の表面をエッチング作用のある親水性の表面処理液で濡らし、処理布を押し付けてラビング処理をする。【効果】砥粒を含む加工液を使わないで表面処理だけで済むため、処理後の洗浄が簡素になり、磁気異方性が付くと共にヘッドの浮上特性が向上する。
請求項（抜粋）：
磁性媒体を支えるNi-Pメッキ基板の上に、下地膜、磁性膜、保護膜、潤滑膜を順次成膜する薄膜磁気ディスクにおいて、Ni-P基板表面にテクスチャ加工溝が無く、表面の粗さが2nmRa以下の平面であることを特徴とする薄膜磁気ディスク。
IPC (2件)：
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